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產(chǎn)品名稱:密閉制冷加熱循環(huán)裝置 高低溫一體機(jī)
更新時(shí)間:2024-02-27
產(chǎn)品型號(hào):ZT-20-200-30H
產(chǎn)品特點(diǎn):密閉制冷加熱循環(huán)裝置 高低溫一體機(jī)廣泛應(yīng)用于有機(jī)合成、生物、制藥、食品等各大科研及高校實(shí)驗(yàn)室。有防爆型可供選擇,具有安全、、環(huán)保、方便等特點(diǎn)。
品牌 | 長(zhǎng)城科工貿(mào) |
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密閉制冷加熱循環(huán)裝置 高低溫一體機(jī)廣泛應(yīng)用于有機(jī)合成、生物、制藥、食品等各大科研及高校實(shí)驗(yàn)室。有防爆型可供選擇,具有安全、、環(huán)保、方便等特點(diǎn)。能提供熱源或冷源的循環(huán)裝置。工作范圍廣,可用于制藥、化工、生物等行業(yè),為反應(yīng)釜、槽等提供熱源和冷源。
制冷加熱循環(huán)裝置,又稱高低溫一體機(jī)、制冷加熱一體機(jī),為需冷卻或加熱設(shè)備如反應(yīng)釜、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀等提供高低溫循環(huán)液,通過(guò)外循環(huán)的方式為反應(yīng)器皿提供熱源或冷源,達(dá)到反應(yīng)所需條件,控溫精度高。
應(yīng)用
●化工、制藥和生物領(lǐng)域中雙層及三層反應(yīng)釜的溫度控制。
●材料測(cè)試中的溫度控制。
●蒸餾系統(tǒng)的溫度控制。
●工藝過(guò)程中的溫度變化模擬控制。
●恒溫控制系統(tǒng)。
●半導(dǎo)體設(shè)備的溫度控制。
●熱測(cè)試平臺(tái)的溫度控制。
●真空室的溫度控制。
使用溫度范圍(℃) | -30~200 | |
溫度穩(wěn)定性(℃) | ±0.5 | |
電源(V/Hz) | 220-240V~ ,50Hz | |
整機(jī)功率 (kW) | 4.7 | |
制冷量(Kw) | 200℃ | 1.7 |
10℃ | 2.6 | |
-10℃ | 1.1 | |
-20℃ | 0.7 | |
-30℃ | 0.3 | |
制冷劑 | R22 | |
浴液加注量(L) | 10 | |
加熱功率(kW) | 3 | |
循環(huán)泵性能 | 流量(L/min) | 30 |
壓力 (bar) | 1 | |
外形尺寸 (mm) | 580W×825D×1370H | |
重量(kg) | 172 |
密閉制冷加熱循環(huán)裝置 高低溫一體機(jī)
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